Sutikno, - and Eka Nurdiana, - and Sugianto, FMIPA Fisika (2013) Sintesis Bahan Resist Dari Epoxy Untuk Aplikasi Fotolitografi. In: Seminar Nasional Fisika dan Pendidikan Fisika.

	PDF - Published Version Download (296kB)
	PDF - Published Version Download (1MB)
	PDF - Published Version Download (4MB)
	PDF - Published Version Download (868kB)
	PDF - Published Version Download (3MB)
	PDF - Published Version Download (424kB)

Abstract

Bahan yang digunakan dalam penelitian meliputi resin epoxy, sodium acetate trihydrate dan toluena. Epoxy merupakan polimer yang sering digunakan sebagai komponen photoresist. Polimer berbasis epoxy merupakan kandidat yang baik digunakan sebagai bagian dari perangkat mekanik mikro elektro. Epoxy umumnya memberikan sifat adhesi yang luar biasa terhadap permukaan semikonduktor, sensitivitas yang baik dan harga yang murah. Photoresist epoxy yang dihasilkan memiliki absorbansi 0,1-1,5 pada panjang gelombang g-line, h-line dan i-line, sedangkan pada panjang gelombang XeF selalu bernilai negatif. Strutur mikro permukaan film tipis photoresist dengan pemanasan 70ºC menghasilkan homogenitas permukaan lebih halus daripada pemanasan 90ºC. Kerapatan photoresist meningkat dengan semakin banyaknya komposisi toluena dan viskositas cairan photoresist berkurang dengan meningkatnya komposisi toluena

Actions (login required)

View Item