Hanendya Disha Randy Raharja , 4211511015 (2017) PHOTORESIST: FABRIKASI, KARAKTERISASI DAN SENSITIVITASNYA PAPARAN SINAR ULTRAVIOLET DAN SINAR-X. Under Graduates thesis, Universitas Negeri Semarang.

Preview

PDF - Published Version Download (335kB) | Preview

Abstract

Telah dilakukan penelitian tentang fabrikasi, karakterisasi dan uji sensitivitas bahan photoresist berbasis resin epoxy. Metode pembuatan photoresist dilakukan dalam dua tahap yaitu tahap pembuatan larutan photoresist dan film tipis photoresist. Pembuatan photoresist dilakukan dengan mencampurkan resin epoxy (polimer), sodium acetate trihydare (PAC) dan etanol (pelarut) dengan variasi massa menggunakan heated magnetic stirrer dengan laju putaran 1000 rpm hingga suhu 75 0C. Sampel larutan photoresist untuk karakterisasi densitas dengan metode massa per volume dan viskositas menggunakan viskometer Ostwald. Sampel film tipis photoresist yang ditumbuhkan melalui metode spin coating dengan arus 5 volt selama 60 detik dan pemanasan hingga suhu 150 oC. Untuk karakterisasi struktur permukaan menggunakan microscope CCD MS-804, nilai absorbansi menggunakan spektrometer ocean optic Vis-NIR USB4000 dan arus tegangan menggunakan I-V Meter Elkahfi 100. Uji sensitivitas photoresist dilakukan dengan memberikan paparan sumber radiasi sinar UV dan sinar-X terhadap bahan photoresist. Photoresist yang dihasilkan memiliki nilai densitas 1 hingga 1,23 g/ml, nilai viskositas dinamis yang dihasilkan antara 7 hingga 22 Cp dan nilai viskositas kinematis yang dihasilkan berkisar antara 7-18 Cst. Nilai absorbansi yang dihasilkan terletak pada rentang panjang gelombang 350 hingga 1050 nm dengan nilai absorbansi maksimal 0,2 sampai 0,5 pada panjang gelombang g-line, h-line dan i-line. Arus maksimum yang terbangkitkan mencapai 1,84 x 10-8 ampere. Photoresist berbasis epoxy memiliki struktur homogen. Sensitivitas terhadap paparan sinar UV menunjukan adanya reaksi fotokimia pada photoresist namun pada paparan sinar-X belum terjadi reaksi fotokimia sehingga photoresist berbasis epoxy sensitiv terhadap paparan sinar UV namun belum sensitiv terhadap paparan sinar-X. Pembuatan photoresist perlu dikembangkan lagi untuk memperoleh tingkat sentivitas terhadap paparan sinar UV dan sinar-X.

Actions (login required)

View Item