Syamsul Hadi, 4250408013 (2013) DEPOSISI DAN KARAKTERISASI FILM TIPIS CdS/CdTe:Cu YANG DITUMBUHKAN DENGAN METODE DC MAGNETRON SPUTTERING. Under Graduates thesis, Universitas Negeri Semarang.

Preview

PDF (DEPOSISI DAN KARAKTERISASI FILM TIPIS CdS/CdTe:Cu YANG DITUMBUHKAN DENGAN METODE DC MAGNETRON SPUTTERING) - Published Version Download (1MB) | Preview

Abstract

Film tipis double layer CdS/CdTe dan CdS/CdTe:Cu telah dideposisikan di atas substrat ITO dengan metode dc magnetron sputtering. Kedua film tipis tersebut dideposisikan dengan parameter yang optimal, pada temperatur substrat sebesar 330 °C, tekanan gas Ar 500 mTorr dengan daya plasma 50 watt. Karakteristik film tipis dilihat dari morfologi permukaan, sifat optik, dan sifat listrik. Analisis CCD Mikroskop menunjukkan bahwa film tipis CdS/CdTe dan CdS/CdTe:Cu mempunyai bentuk morfologi yang homogen. Penambahan doping Cu menyebabkan morfologi film yang dihasilkan menjadi lebih homogen. Hasil karakterisasi sifat optik dengan spektrometer Vis-Nir menunjukkan bahwa film tipis mempunyai besar energi gap yang tidak jauh beda dan koefisien absorpsi semakin meningkat dengan peningkatan jumlah konsentrasi doping Cu. Hasil karakteristik I-V menunjukkan bentuk kurva I-V yang eksponensial untuk semua film tipis yang menandakan film double layer tersebut membentuk sambungan p-n. Nilai resistivitas semakin menurun dan konduktivitas meningkat seiring dengan penambahan konsentrasi doping Cu. Faktor idealitas dan arus muatan ruang masingmasing film mendekati nilai ideal untuk sambungan p-n film tpis CdS/CdTe.

Actions (login required)

View Item