Pengaruh Temperatur Deposisi terhadap Struktur dan Sifat Optik FilmTipis ZnO:Al dengan metode DC Magnetron Sputtering


Sugianto, FMIPA Fisika and Putut Marwoto, - and Budi Astuti, - and Rofiatul Zannah, - and Yanti, - (2015) Pengaruh Temperatur Deposisi terhadap Struktur dan Sifat Optik FilmTipis ZnO:Al dengan metode DC Magnetron Sputtering. Jurnal Fisika, 5 (2). ISSN 2088-1509

[thumbnail of Pengaruh Temperatur Deposisi terhadap Struktur dan Sifat Optik Film Tipis.pdf] PDF - Published Version
Download (107kB)

Abstract

Film tipis zinc oxide doping aluminium (ZnO:Al) telah dideposisikan di atas substrat corning glass dengan metode DC magnetron sputtering. Penumbuhan dilakukan dengan memvariasi temperatur deposisi (27°C, 200oC, 300oC, dan 400°C). Analisis X-ray diffraction (XRD) menunjukkan struktur kristal wurtzite dengan orientasi sumbu-c. Ukuran butir kristal meningkat dari 35 nm sampai 52 nm. Analisis scanning electron microscopy (SEM) menunjukkan bahwa ukuran butir bertambah besar dengan bertambahnya temperatur deposisi. Peningkatan temperatur deposisi juga menyebabkan peningkatan nilai transmitansi dari 70% sampai 83% dengan tepi absorpsi pada panjang gelombang sekitar 380 nm

Item Type: Article
Uncontrolled Keywords: Film Tipis, Transmitansi dan ZnO:Al
Subjects: Q Science > QC Physics
Fakultas: Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam > Fisika, S1
Depositing User: mahargjo hapsoro adi
Date Deposited: 11 Apr 2023 02:31
Last Modified: 11 Apr 2023 02:31
URI: http://lib.unnes.ac.id/id/eprint/56988

Actions (login required)

View Item View Item