Reza Faizal, - and Putut Marwoto, - and Sulhadi, - and Sugianto, FMIPA Fisika (2017) Pengaruh Oksidasi Setelah Deposisi Terhadap Sifat Film Tipis ZnO:Ga. Jurnal Matematika dan Sains, 22. pp. 1-4. ISSN 0854-5154

PDF - Published Version Download (393kB)

Abstract

Pengaruh oksidasi setelah deposisi terhadap sifat film tipis ZnO:Ga telah dipelajari. Film dideposisi menggunakan metode dc mag�netron sputtering pada suhu 300 oC selama 1 jam, kemudian dilakukan variasi oksidasi menggunakan gas oksigen purity 99,99% dengan tekanan 0 mTorr dan 50 mTorr pada suhu 300 oC selama 20 menit. Berdasarkan hasil SEM, ukuran butir film menunjukkan perubahan menjadi lebih besar pada tekanan oksigen 50 mTorr dibandingkan pada tekanan oksigen 0 mTorr. UV-Vis spektrofotome�ter menunjukkan transmitansi film pada cahaya tampak meningkat seiring dengan meningkatnya tekanan oksigen mencapai sekitar ~83%. Celah pita energi yang dihasilkan film tipis ZnO:Ga pada tekanan oksigen 0 mTorr dan 50 mTorr masing-masing 3,32 eV dan 3,4 eV.

Actions (login required)

View Item