SINTESIS FOTORESIS ORGANIK DARI BUNGA WARU (Hibiscus tiliaceus L. flowers) UNTUK PEMOLAAN DENGAN PAPARAN SINAR UV DAN SINAR-X


Eva Amellia Defi, 4211415032 (2020) SINTESIS FOTORESIS ORGANIK DARI BUNGA WARU (Hibiscus tiliaceus L. flowers) UNTUK PEMOLAAN DENGAN PAPARAN SINAR UV DAN SINAR-X. Under Graduates thesis, Universitas Negeri Semarang.

[thumbnail of SINTESIS FOTORESIS ORGANIK DARI BUNGA WARU (Hibiscus tiliaceus L. flowers) UNTUK PEMOLAAN DENGAN PAPARAN SINAR UV DAN SINAR-X]
Preview
PDF (SINTESIS FOTORESIS ORGANIK DARI BUNGA WARU (Hibiscus tiliaceus L. flowers) UNTUK PEMOLAAN DENGAN PAPARAN SINAR UV DAN SINAR-X) - Published Version
Download (3MB) | Preview

Abstract

Fotoresis merupakan bahan kimia yang digunakan dalam proses litografi untuk membuat pola pada piranti mikroelektronika. Penggunaan fotoresis yang meningkat setiap tahunnya mengakibatkan ketersediaan bahan baku yang semakin menipis dan timbulnya pencemaran lingkungan, sehingga perlu ditemukan alternatif bahan lain yang lebih ramah lingkungan. Bunga waru merupakan senyawa organik yang mengandung pigmen antosianin yang memberikan pigmen warna merah kekuningan. Pigmen antosianin merupakan salah satu bahan fotoaktif. Pembuatan fotoresis organik dilakukan dalam lima tahap yaitu pembuatan ekstrak bunga waru, pembuatan film tipis ekstrak bunga waru, pembuatan cairan resist, pembuatan film tipis fotoresis dan pengujian sensitivitas bahan fotoresis. Kerapatan cairan resist dikarakterisasi dengan metode massa per volume. Film tipis fotoresis ditumbuhkan melalui metode spin coating dengan tegangan 10 V selama 60 s dan pemanasan hingga suhu 200℃ untuk karakterisasi struktur permukaan dan sifat optik. Nilai kerapatan cairan resist yang dihasilkan dalam penelitian yaitu 1,047 g/ml, 1,0600 g/ml, 1,0767 g/ml, 1,0967 g/ml, 1,1033 g/ml dan 1,110 g/ml. Semakin rendah kandungan kadar ekstrak bunga waru cairan fotoresis organik maka struktur mikro film tipisnya cenderung semakin homogen. Fotoresis yang dihasilkan memiliki nilai - nilai absorbansi yang terletak pada rentang panjang gelombang 350 - 1050 nm dengan nilai absorbansi maksimal fotoresis organik sebesar 0,07 - 0,3. Sumber radiasi sinar UV dan sinar-X digunakan untuk uji sensitivitas fotoresis organik. Fotoresis organik yang dihasilkan setelah diberi paparan sinar UV mampu menghasilkan rata-rata lebar pola garis terkecil sebesar 1929,1762 μm = 0,19 cm, sedangkan setelah diberi paparan sinar-X tidak terbentuk pola.

Item Type: Thesis (Under Graduates)
Uncontrolled Keywords: fotoresis; Hibiscus tiliaceus L.; epoxy; fotosensitivitas; resolusi.
Subjects: Q Science > QC Physics
Fakultas: Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam > Fisika, S1
Depositing User: Retma IF UPT Perpus
Date Deposited: 18 Nov 2020 05:01
Last Modified: 18 Nov 2020 05:01
URI: http://lib.unnes.ac.id/id/eprint/41470

Actions (login required)

View Item View Item