PENGARUH TEKANAN OKSIGEN PADA PROSES ANNEALING FILM TIPIS ZINC OKSIDA (ZnO) DOPING ALUMINIUM (Al)


Siti Nor Mahmudah , 4211412015 (2016) PENGARUH TEKANAN OKSIGEN PADA PROSES ANNEALING FILM TIPIS ZINC OKSIDA (ZnO) DOPING ALUMINIUM (Al). Under Graduates thesis, Universitas Negeri Semarang.

[thumbnail of 4211412015.pdf]
Preview
PDF - Published Version
Download (2MB) | Preview

Abstract

Film tipis ZnO doping Al dideposisikan di atas subtrat corning glass dengan menggunakan metode DC magnetron sputtering. Film tipis ZnO doping Al dideposisikan dengan tekanan argon 500 mTorr dan daya plasma 40 watt pada temperatur 400oC selama 2 jam. Hasil karakterisasi XRD film tipis ZnO doping Al menunjukkan bahwa film tipis yang dideposisikan mempunyai struktur heksagonal dengan puncak difraksi dominan sesuai orientasi bidang (002). Hasil karakterisasi sifat optik film tipis menggunakan spektrometer UV-Vis menunjukkan nilai transmitansi film yang dideposisikan sebesar 81,27%. Nilai energi band gap masih dalam rentang energi band gap untuk bahan TCO yaitu antara 2,5 – 4,5 eV. Pemberian oksigen pada tekanan 100 mTorr menghasilkan film tipis ZnO doping Al dengan struktur dan sifat optik yang baik. Sifat listrik film tipis ZnO doping Al dengan variasi tekanan oksigen pada proses annealing dikarakterisasi dengan menggunakan IV meter. Hasil analisis sifat listrik film tipis menunjukkan nilai resistivitas film tipis ZnO doping Al paling kecil dihasilkan oleh film tipis ZnO doping Al dangan tekanan oksigen pada proses annealing 50 mTorr yaitu sebesar 1,28 x 104 (Ω.cm).

Item Type: Thesis (Under Graduates)
Uncontrolled Keywords: ZnO doping Al, Annealing, Oksidasi, XRD, UV-vis spektrofotometer, I-V meter.
Subjects: Q Science > QC Physics
Q Science > QD Chemistry > Coating
Fakultas: Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam > Fisika, S1
Depositing User: Users 98 not found.
Date Deposited: 12 Oct 2017 12:49
Last Modified: 12 Oct 2017 12:49
URI: http://lib.unnes.ac.id/id/eprint/26726

Actions (login required)

View Item View Item