FABRIKASI DAN KARAKTERISASI BAHAN RESIST DARI RESIN DAN EKSTRAK KULIT MANGGIS (Garcinia mangostana linn) UNTUK APLIKASI E-BEAM LITHOGRAFI

Nursal Aziz , 4211409007 (2014) FABRIKASI DAN KARAKTERISASI BAHAN RESIST DARI RESIN DAN EKSTRAK KULIT MANGGIS (Garcinia mangostana linn) UNTUK APLIKASI E-BEAM LITHOGRAFI. Under Graduates thesis, Universitas Negeri Semarang.

Abstract

Telah dilakukan penelitian tentang fabrikasi dan karakterisasi bahan resist dari resin dan ekstrak kulit manggis untuk aplikasi e-beam lithografi. Pada penelitian ini Photoresist dibuat dengancaramencampurkan resin, ethanol 96%, sodium asetat 3-hydrate dan ekstrak kulit manggis. Pencampuran bahan dilakukan menggunakan heated magnetic stirrer sampai suhu mencapai 800C dengan laju putaran 1000 rpm.Film tipis photoresist dibentuk dengan metode spin coating pada substrat kaca preparat berukuran 2 cm x 2 cm dan diputar dengan kecepatan 2200 rpm. Proses pemanasan film tipis dilakukan setelah proses spin coating dengan menempatkan substrat kaca preparat yang sudah terlapisi larutan photoresistmenggunakanoven pada suhu 200oC selama 30 menit. Pada penelitian yang digunakan adalah variasi ekstrak kulit manggis.Pengujian sampel meliputi pengukuran transmitansi menggunakan PerkinElmer FT-IR Spektrometer Frontier, uji sifat optic menggunakan spectrometer ocean Vis-NIR USB 4000, pengamatan struktur morfologi dengan menggunakan scopeman digital CCD microscope MS-804 dan densitas atau kerapatan menggunakan timbangan digital (Neraca Ohaus Scout Pro). Hasil penelitian pembuatan ekstrak kulit manggis menunjukan bahwa film tipis ekstrak kulit manggis mempunyai struktur permukaan yang rata dan bersifat homogen. Nilai absorbansi panjang gelombang maksimum terletak pada 347,2 nm sampai 1043,49 nm. Arus maksimum yang terbangkitkan sebesar 1,87 x10-6 A pada film tipis berbahan ekstrak kulit buah manggis dan untuk struktur molekul ekstrak kulit manggis memiliki 3 puncak serapan. Sedangkan hasil pembuatan photoresist menunjukan bahwa berbahan resin dan ekstrak kulit manggis menunjukkan bahwa struktur molekulphotoresist memiliki empat puncak serapan. Nilai densitas larutan photoresist1,26 g/ml dan memiliki struktur permukaan film yang kasar dan bersifat homogen. Pada pembuatan photoresist semakin besar massa ekstrak kulit manggis yang digunakan akan menghasilkan larutan photoresist yang lebih kental. Pembuatan photoresist masih perlu dikembangkan atau dioptimasi lagi untuk mendapatkan hasil yang lebih baik.

Item Type: Thesis (Under Graduates)
Uncontrolled Keywords: Photoresist; resin; ekstrak kulit manggis;spin coating
Subjects: Q Science > QC Physics
Q Science > QK Botany
Fakultas: Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam > Fisika, S1
Depositing User: Hapsoro Adi Perpus
Date Deposited: 18 Jan 2016 05:59
Last Modified: 18 Jan 2016 05:59

Actions (login required)

View Item